所以我的理解是，功函数只是结果，不是目的，目的是掺杂浓度，按我上一贴说的，顶部重掺杂提高接触性，费米能级上移，功函数下降，底部需要高透光，消除简并，掺杂浓度下降，费米能级下降，功函数提高，但是其对p层的影响没什么区别，都会被钉扎
功函数这个我是真没搞懂[哭泣]，教材上学的是因为半导体表面态的原因，费米能级都钉扎在表面态处，所以功函数大小没有影响。。。而且背面的少子是空穴，功函数大点小点只是稍微改变点原费米能级的位置，但是价带还是离p层的价带非常远，有很高的势垒，可以参考22年9月的叠层大会阿特斯给的能带图。然后是栅线优化问题，这个迈为七月刚说，银浆用量卡死了，那么不存在不改变细栅形貌而提高线数的可能性，那么平衡AZO的办法只有ITO结构，其实就是套娃两次叠层，这个结构做到是肯定没问题的，可以看我上面的评论。