我国光刻技术的起步并不晚,早在上个世纪60年代中科院就开始研究光刻机了,并且在1965年就研制出65型接触式光刻机,1972年武汉无线电元件三厂编写的《光刻掩模的制造》的书中,具体讲述了当时那个时代,我们光刻技术的发展历程,后来1980年中国清华大学第四代分布式投影光刻机获得成功,将光刻精度缩小至3微米,这个制程与当时国际先进水平非常接近。不过由于我们过早的让自主的光刻产品直接面对西方企业的价格竞争,这使得我国光刻先驱武汉无线电元件三厂在1994年破产,改制成为副食品商铺,这使得我们20年光刻技术的积累全部付之东流,而且陷入停滞。(CSDN)转