从设备空间上来说，光刻刻蚀沉积是最好的，其次是量测，然后是涂胶显影、CMP等，光刻就一家，刻蚀沉积A股主要就是这北方华创中微公司拓荆科技，而且这三家的技术节点已经处于14-7的阶段了，其中中微更进一步达到5。量测虽然空间也不小但技术节点依然在28，还是有差距，一旦突破14那么空间就很...