$中来股份(SZ300393)$ N型双面电池制作过程中，都会用掩膜工艺（无论板式或管式），而掩膜就会产生绕镀膜，目前一般技术考虑的是在硅片周边生成绕镀后再用氢氟酸清洗，但化学方法成本高且清洗效果一般。杰太目前报了个专利是在硅片的输送线上加个中空的炭纤维载板，载板仅与硅片边缘接触及包裹，送入抽了真空的工艺腔，从工艺腔底部向工艺腔内通入工艺气体并进入电离区，然后在等离子反应区内从下往上在硅片表面沉积薄膜，最终反应后抽出气体从工艺腔侧面或上面。不知这技术沉积BSG膜的均匀性怎么样，装置保养的频率会不会比较频繁，之前单面电池时是有公司采用U型的石墨载板运送硅片避免绕镀问题的。