国林科技:臭氧被电子工业广泛用于形成 CVD 和 ALD 薄膜、氧化物生长、光刻胶去除和多种清洁应用

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同花顺(300033)金融研究中心9月7日讯,有投资者向国林科技(300786)提问, 请问公司有光刻胶概念吗?具体是什么? 公司回答表示,尊敬的投资者,您好。臭氧被电子工业广泛用于形成 CVD 和 ALD 薄膜、氧化物生长、光刻胶去除和多种... 网页链接