上海新阳:公司开发的ArF湿法光刻胶主要是为了满足国内集成电路产业的发展需要,有些指标处于国内领先...

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同花顺(300033)金融研究中心5月9日讯,有投资者向上海新阳(300236)提问, 根据天眼查显示,公司研发并申请专利的ARF湿法光刻胶灵敏度达45-60nm,边缘粗糙度为2-3纳米,是否标志着公司ARF光刻胶已达国内领先水平?谢谢! 公司回答... 网页链接

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2023-05-09 21:13

别唱了,光刻胶国内领先是徐州博康,你家半导体原材料都是国外采购的,容易被卡脖子