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光刻机一般分为扫描式光刻机和步进式光刻机两种，步进式光刻机为市场主流产品。步进式光刻机指把投影掩模版上的图形与涂胶硅片进行对准，而后从一点到另一点进行逐场曝光操作的光刻机。步进式光刻机可一次曝光多个芯片，具有生产效率高、精度高等优势，在芯片制造过程中应用较多。
步进式光刻机由工件台、光源系统、光学系统、掩模台、浸液系统构成，工件台为其重要组成部分。工件台通常分为单工件台和双工件台，双工件台能有效提高生产效率。
步进式光刻机行业技术壁垒较高，全球市场由海外龙头企业占据垄断地位。日本佳能株式会社（Canon）、日本尼康株式会社（Nikon）、荷兰阿斯麦公司（ASML）为全球步进式光刻机市场主要参与者。荷兰阿斯麦公司于上世纪八十年代研发出首台步进式光刻机，目前该公司已成为全球最大步进式光刻机生产商。
光刻机巨头ASML公布全年业绩，2022年营收1562亿人民币，净利润412亿人民币。国产光刻机公司上海微电子预计收入34亿—36亿元之间，净利润为11亿—13亿。