微纳3D形貌不仅极难加工，而且数据量极大、耗时极长，包括电子束光刻在内，在大面积上制备3D形貌都是国际难题，纳米结构越精细，光刻效率越低。 苏大维格（300331）发明了一种高效微纳结构并行直写方法。用数字光场调控与脉冲叠加曝光方法，... 网页链接