集微网消息（文/武守哲）4月17日，荷兰光刻机巨头ASML披露2024年一季报，实现净销售额53亿欧元（约合人民币408亿元），同比下滑21%，环比下滑27%；净利润为12亿欧元，同比降40%，环比下滑幅度也高达40%；毛利率为51.0%，同比提升0.4个百分点，环比下滑0.4个百分点。
在公开发布的财务数据和简报之外，长达一小时的财报电话会议丰富了一连串数字背后的更多讯息。
这一季度，ASML发货了12个EUV光刻系统，并从11个设备中记录了18亿欧元的收入。
ASML本季度末的自由现金流为负，这主要是由于与上季度相比首付客户减少和库存增加所致。
库存问题主要是价值含量高的先进光刻设备的蓄势待放量。
本季度，ASML净光刻系统预订量由59%的内存商和41%的逻辑代工厂所推动，由此可以看到，AI大算力芯片对存储类公司推动着设备需求的景气度很旺。
值得一提的是，4月24日ASML股东大会将是目前公司CEO Peter Wennink最后一个工作日，他向大家提前道别。在过去的十年里，Peter Wennink以CEO的身份陪伴ASML走过了40多个财季，并且在过去的25年里为公司服役超过100个财季，见证了ASML的业务的持续攀升和各种高光。在电话会议上，ASML同事和连线接入的分析师纷纷对Peter Wennink表示敬意和感谢。
驳斥中国成熟制程产能过剩论
财报显示，本财季ASML来自中国大陆净系统销售营收为19亿欧元，而上季度为22亿欧元。该季度ASML来自中国大陆的净系统销售营收占比高达49%。
对此，公司首席财务官Roger Dassen阐述：“这个数字环比有所下降，但仍然在绝对值和相对值上保持了很强劲的势头。一般来说每年Q1的设备销量和出货量相对较低，这并不奇怪。”针对 TD Cowen分析师Krish Sankar所提问的中国大陆销量是否占比过高的问题，Roger Dassen认为，销量和订单量是两个不同的观察维度，一个是显性的，一个是隐性的，公司不会披露订单量的地理分布，但从新增、库存订单量等角度看，要比ASML的光刻设备销量要更分散的多。他还透露，目前ASML订单的积压量，中国大陆的占比约为20%。
此外，Krish Sankar还问到了美国出口管制对中国市场的影响度这一问题，ASML去年给出的回答是10%到15%之间，那么这个财务指引目前有没有变化？Roger Dassen对此表示，10%-15%这一判断没有改变，美国新规主要还是影响浸润式光刻设备的在华销售。
Berenberg的Tammy Qiu问到了目前设备市场的一个热点话题，目前美国联合盟友国家对中国所谓的成熟制程“产能过剩”问题进行审查，这会对ASML的在华业务造成什么影响？
Roger Dassen有力的驳斥了中国“成熟制程产能过剩论”。他指出，全球各国的产能都在提升，正如我们在2022年投资者日所分享的，从2022年到2030年间，每年都会新增38万片左右的成熟制程晶圆的需求量，如果将2023年全球生产的成熟制程晶圆数量相加，结果其实是低于这个数字的，何来中国产能过剩之说？他还强调：“在未来，与其他国家相比，中国的自给自足能力将会比现在更高，这与对成熟技术的需求持续强劲有关。中国今天新增的成熟产能是理性且符合预期的，即增加哪些成熟工艺产能才能满足世界需求的预期。”
近几个月以来，业界传出美国施压ASML中止对华光刻设备维护服务，给设备产业链的健康度蒙上了一层阴影。针对Goldman Sachs分析师Alexander Duval的这一问询，公司CEO Wennink做了专门回答，他指出：“两国政府之间已经进行了讨论......各国政府围绕这一问题的讨论方向是国家安全问题。目前ASML在华已装机的设备的维护服务上未受阻碍。”
ASML的过渡年
ASML这份财报看上去数据好像并不太乐观，但并没有引发半导体行业的过度担忧，资本市场也相对反应平淡。其中一个重要原因是，从去年下半年开始，ASML高层就把2024年定调为过渡年，为“2025年玩大的”做蓄势准备。
过去六个月，ASML的销售额为130亿欧元，即每季度平均65亿欧元，依然亮眼。分析机构RadioFreeMobile总裁Richard Windsor在集微网邮件采访中也提到，2025年将会是ASML的大年，这主要是由于先进代工厂已经做出了巨额承诺，如英特尔、三星、台积电和美光等将会下单利润率更高的EUV设备。
向上迈进，高NA设备的持续放量
在财报电话会议上，公司CFO还提到了高孔径EUV的财务贡献度。他指出，ASML计划在2024年EUV 0.33 NA光刻设备上的发货量和2023年保持持平，并且在交付了第一台NXE:3800E，以供客户鉴定审核和导入。NXE:3800E生产率达到每小时曝光220片晶圆，可以比最终配置的NXE:3600D提高37%（如下图）。
今年2月份，英特尔技术开发总经理Ann Kelleher在加利福尼亚州圣何塞举行的SPIE光刻会议上，表示ASML已向英特尔交付的最先进High NA EUV光刻机Twinscan EXE:5000的主要部件已经启动，该设备将提供0.55数值孔径的投影光学器件，单次曝光分辨率可低至8nm，比单次曝光13.5nm分辨率的典型Low-NA EUV的分辨率更高。目前第一套High-NA EUV系统安装在在ASML荷兰Veldhoven实验室，第二套系统则正在英特尔的俄勒冈州晶圆厂组装。