营收方面：
2023年营业收入达到27亿元，同比增长58.60%，薄膜沉积设备营收25.7亿元，其中核心设备PECVD营收23.2亿元，同比增长48.46%。净利润6.6亿元（2季度计提股权激励费用1.26亿元），同比增加79%，扣非净利润3.1亿元，同比增加75%。报告期末在手销售订单金额64.23亿元(不含Demo订单)，23年出货460+腔，预计24年出货量1000+腔，24年1季度出货金额同比增加130%。
业务方面：
薄膜沉积设备销售153台，同比增加47%，库存171台，同比增加5%。主打业务PECVD（占薄膜沉积设备的33%）实现PECVD薄膜材料全覆盖，ALD（占薄膜沉积设备11%）系列产品收入大幅度增加，其中Thermal-ALD设备通过客户端验证，实现首台的产业化应用，取得了突破性进展;SACVD（占薄膜沉积设备6%）系列产品持续拓展应用领域，产品销售收入增加;HDPCVD设备通过客户端验证，实现首台的产业化应用，并获得批量重复订单。
混合键合设备表现出色，突破核心技术,首台晶圆对晶圆键合产品顺利通过客户端验证，复购设备再次通过验证，为国产首台应用于量产的键合设备，该设备的性能和产能指标达到国际领先水平，此外，公司推出的芯片对晶圆混合键合前表面预处理产品通过客户端验证，实现了产业化应用，为国产首台应用于量产的同类型产品，晶圆键合设备出货量3台，营收0.64亿元。
研发方面：
报告期内研发投入5.7亿元，全部费用化处理，研发人员484人（23年334人），其中博士28人。
在建工程：
公司募投项目一“高端半导体设备扩产项目”是在公司原有半导体薄膜沉积设备研发和生产基地基础上进行二期洁净厂房建设。截至报告期末，二期洁净厂房已完成建设并投入使用。
②公司募投项目三“ALD设备研发与产业化项目”为进一步完善产业布局，公司在上海临港新片区购置整体厂房，建设新的研发及生产基地(建筑面积为5,181.68平方米)，开展ALD薄膜沉积设备的研发与产业化。报告期内，该项目的研发与产业化基地建设厂房改造已经完成并投入使用，开始开展ALD设备的研发和生产相关工作。
③超募资金投资建设新项目“半导体先进工艺装备研发与产业化项目”
公司超募资金投资项目“半导体先进工艺装备研发与产业化项目”是在上海临港新片区建设研发与产业化基地(土地面积为39,990.20平方米)，用于先进半导体薄膜沉积设备及工艺的研发，并实现以临港为中心客户群所需半导体设备的产业化。报告期内，公司已完成项目用地许可证和土地证的办理，并按照计划施工建设，进展顺利。$拓荆科技(SH688072)$