去年11月，中国进口了42台光刻机，其中16台来自荷兰ASML，15台则来自日本的尼康和佳能。此外，佳能在2023年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印设备（Nanoprinted lithography，NIL）FPA-1200NZ2C，号称其相关设备可以生产最小5nm制程节点的逻辑半导体。之后，佳能半导体设备业务部长岩本和德还表示，如果改进光罩，纳米压印甚至可以生产2nm先进制程的芯片。但由于相关限制，此类装置并不能对华出口。