众所周知，光刻是芯片制造过程中最重要、最关键的环节，光刻的原理是利用光源，将芯片的电路图投射到涂了光刻胶的硅晶圆片上。
而光刻机的精度，就决定了芯片电路图的精度，就代表着芯片的制造工艺，所以能够买到高端光刻机，也是芯片制造水平能不能达到顶级的先决条件之一。
目前全球的能生产光刻机的企业并不多，但要说销量最大的，排名最靠前的企业，最为大家熟悉的企业，也只有4家了。
而这四家光刻机企业中，荷兰有一家，就是大名鼎鼎的ASML，中国有一家就是上海微电子，而日本有两家，分别是佳能和尼康，这四家企业占了全球95%以上的份额，处于绝对的垄断地位。
不过这4家企业的水平差距也非常大，目前可以按照芯片的制造工艺，将光刻机的档次分为4档，能生产节点为90nm+的光刻机称之为低端，而65-90nm称之为中端，而7-28nm称之为高端，则7nm及以下称之为超高端。
那么ASML是唯一进入超高端的企业。他能够生产所有产品线的光刻机，而尼康只能进入高端，它的最好水平是14nm左右。
而佳能和上海微电子目前只能量产90nm节点的光刻机，处于最低端的水平，离ASML至少有10年以上的差距。
说真的， 光刻机的原理并不复杂，核心元件也不是多，最核心的可能是光源，但这其实也不那么重要。真正决定光刻机精度的是技术、装配工艺、经验。
ASML和全球所有芯片制造大厂都有合作，像台积电、三星、intel等芯片巨头们都是ASML的股东，与芯片厂商们一起调试机器，根据厂商们的需求调整光刻机，达到最佳精度，这才是ASML的优势。
而这也是尼康、佳能、上海微电子这些光刻机厂商，一直追不上ASML的原因，因为不管是日本，还是中国的芯片制造水平都不太强，而ASML的光刻机的制造水平，是这多年以来与芯片制造厂商一起努力实践出来的。
众所周知，随着越来越多中国高新科技企业被列入到美国“实体清单”之后，相对较为落后的国产芯片制造，也是再次引起了大家关注，其中在整个芯片制造过程中最重要的设备—光刻机，自然也就成为了大家最为关注的芯片制造设备之一，毕竟光刻机精密度直接影响着芯片性能、功耗、发热等表现；
在整个芯片制造过程中，硅晶圆片光刻几乎占到了整个芯片制造工时35%-40%，同时光刻机的精密度也直接界定着芯片工艺制程，高端光刻机往往能够生产出精密度更好的芯片，例如7nm、7nm EUV甚至是5nm，都是目前最顶级的芯片制造工艺，所以在性能、功耗、发热等方面的表现，都会更加出色，但在全球范围内，目前只有荷兰ASML公司能够生产这种高端EUV光刻机设备。我国企业所生产的光刻机设备水平依旧处于较为落后水准，与荷兰ASML公司相比，依旧还有着很大的技术差距，但西方国家又对我们封锁了相关的光刻机设备购买渠道，所以在关键设备上被别人“卡住脖子”，也是严重制约着国产芯片制造水平进步。
而目前我国最牛的光刻机巨头就是上海微电子装备(集团)股份有限公司（简称SMEE）；目前所生产的600系列光刻机，已经能够满足90nm芯片生产，可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产，虽然整体光刻机水准较为落后，但最起码能够满足低端芯片生产制造需求，不至于连最低端的光刻机设备都要依靠进口，受到“断供”威胁；
虽然上海微电子装备(集团)股份有限公司所生产的光刻机设备较为低端，但依旧占据着国内出货量近80%的低端光刻机市场份额，所以SMEE凭借几乎垄断国内的光刻机市场份额，依旧能够在全球光刻机设备制造领域排名第四，当然未来随着国产芯片产业不断发展，我们的国产光刻机、国产芯片一定能够实现从低端到高端的发展，这也是中国过往众多企业、产品最喜欢的发展路线，从低端到高端的蜕变。
