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ASML昨日公布2017第二季财报。ASML第二季营收净额 (net sales) 21亿欧元，毛利率 (gross margin) 为45%。在第二季新增8台EUV系统订单，让EUV光刻系统的未出货订单累积到27台，总值高达28亿欧元。预估2017第三季营收净额 (net sales) 约为22亿欧元，毛利率 (gross margin) 约为43%。因为市场需求和第二季的强劲财务表现，ASML预估2017全年营收成长可达25%。
ASML总裁暨执行长温彼得 (Peter Wennink) 指出 : 「ASML今年的主要营收贡献来自内存芯片客户，尤其在DRAM市场需求的驱动下，这部分的营收预估将比去年成长50%，而来自逻辑芯片方面的营收也可望成长15%。除了DUV光刻系统的业务持续成长，在EUV光刻系统部分，未出货订单累积金额在第二季已经累积到28亿欧元，显示不论逻辑芯片和DRAM客户都积极准备将EUV导入芯片量产阶段。」
此外，ASML近年来积极推行系统升级业务，该部分的营收贡献可望在今年成长20%。「综合市场和各业务领域的捷报，我们认为成长动能将延续到2018年，」温彼得说。
第二季產品重點摘要
深紫外光 (DUV)光刻: 推出最新浸润式光刻系统TWINSCAN NXT:2000i，具备多项硬件技术创新，让客户得以在7奈米和5奈米制程节点上，同时用浸润式光刻和EUV系统进行量产，并达到2.5奈米的迭对精度(on-product overlay)。另一方面，3D NAND客户对于KrF干式光刻系统的需求持续升高，目前TWINSCAN XT:860的未出货订单已累积超过20台。TWINSCAN XT:860系统的生产力可达到每天曝光5,300片晶圆。
全方位光刻优化方案 (Holistic Lithography): 本季开始出货最新的YieldStar 375F量测系统，具备最新的光学技术，可更快、更精准的获取量测结果。
极紫外光(EUV)光刻: 在荷兰总部已经成功将升级的EUV光源整合进NXE:3400B系统中，并达成每小时输出125片晶圆的生产力指标。至此，ASML的EUV系统已经成功达成所有计划中的关键效能指标，下一阶段，ASML将专注于达成满足客户在量产时所需的相关妥善率(availability)指标，并持续提升系统生产力。在第二季当中，ASML也完成了对德国卡尔蔡司(ZEISS)旗下蔡司半导体(Carl Zeiss SMT) 24.9%的股权收购，以进一步深化双方的策略伙伴关系，共同发展下一代EUV光刻系统。
展望2017年第三季，ASML预估整体销售净额可达22亿欧元，毛利率约落在43%，其中包含约3亿欧元的EUV营收认列。研发投资金额提高到3.15亿欧元，其他收入部份 (包括来自于客户共同投资计划的收入)约为2,400万欧元，而管销费用 (SG&A) 支出则约1.05亿欧元，年化税率约14%。ASML预计在第三季会有另外3台NXE:3400B EUV光刻系统完成出货。
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