薄膜沉积设备企业首芯半导体完成超亿元股权融资

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根据首芯半导体官方消息,2024年3月,首芯半导体圆满完成天使+轮融资。本轮融资由中赢创投领投,老股东锡创投旗下的澄创高新基金及卓源亚洲跟投。

首芯半导体表示,公司于一年内共计完成超3亿元的融资规模。本轮融资后,首芯半导体将持续加大先进工艺的研发投入、吸纳高端技术人才、推动国产薄膜沉积设备的验证与量产,同时建设销售渠道、搭建技术服务支持体系,加快整体产业化布局。

据悉,首芯半导体成立于2023年2月,主要从事薄膜沉积设备的研发制造并提供相应解决方案。主要产品为化学气相沉积、物理气相沉积、原子层沉积等薄膜沉积设备,广泛应用于半导体、平板显示、新能源等市场。

目前首芯半导体已和国内头部企业,包括12英寸晶圆厂、IDM企业、第三代半导体、高校和研究所等建立战略合作关系,基于SiH4和TEOS的部分PECVD Dielectric薄膜已在陆续验证阶段。同时,基于PECVD的相关关键膜层的研发也在有序进行中。此外,面向先进制程的PEALD设备也在开发过程中。

项目方面,2023年10月,首芯半导体薄膜沉积设备项目在江阴高新区举行开工仪式。据悉,项目将建设集半导体前道制程薄膜沉积高端设备研发、生产、销售为一体的总部基地,总投资5亿元,计划于2024年6月投产。

LEDinside Lynn整理