本报讯 （记者李亚男）7月26日，记者从微导纳米方面获悉，公司在半导体领域已推出包括iTomic系列原子层沉积系统、iTomic MW系列批量式原子层沉积系统、iTomic PE系列等离子体增强原子层沉积系统、iTronix系列化学气相沉积系统等系列产品，现有产品能够对逻辑芯片、存储芯片、化合物半导体、新型显示（硅基OLED）中的薄膜沉积应用实现较为全面的覆盖。
通俗来讲，原子级制造就是在原子尺度上去进行加工，形成具有原子级特定结构特征的器件产品。从实现形式上，可以是以原子级精度进行“去除”加工，也可以是以原子级精度进行“增材”制造。
而微导纳米正是具备原子级制造能力的企业，自2015年成立至今，微导纳米形成了以原子层沉积（ALD）技术为核心，化学气相沉积（CVD）等多种真空薄膜技术梯次发展的技术平台体系，专注于先进微米级、纳米级薄膜沉积设备的研发、生产与销售。
据微导纳米相关负责人介绍，微导纳米是国内首家成功将量产型High-k（高介电常数）原子层沉积（ALD）设备应用于集成电路制造前道生产线的国产设备厂商，并已获得客户重复订单认可。
上述负责人告诉《证券日报》记者，半导体和光伏领域之外，公司还一直坚持执行ALD+CVD等镀膜平台化战略，持续在新兴领域进行前沿化开发，为公司未来发展创造更多收入增长极。目前，公司已在新兴领域取得突破并逐步显现成果，在光学、柔性电子、车规级芯片等几个极具市场潜力的薄膜沉积技术应用前沿领域开始获得客户订单。
（编辑 张明富）