2023年10月，老牌光刻机制造商日本佳能公司发布了纳米压印光刻机FpA-1200Nz2c，预计24年下半年或25年初出货，用于制造5纳米芯片，佳能公司负责纳米压印光刻机设备开发的武石阳明同时表示，如果改进光罩，可以在26年实现制造2纳米芯片。佳能公司的纳米压印光刻机发布，标志着使用纳米压印光刻机制造芯片的技术已经成熟，开创了极紫外光光刻技术之外的另一条芯片制造技术路线。这对饱受芯片制造制裁的中国而言，无疑鼓舞巨大。昨日业界传来消息，一些半导体大厂力挺佳能纳米压印光刻机，即将进入产业化。
政治和经济原因，佳能公司大概率和阿斯麦公司一样对我国禁运。佳能公司产品证明了纳米压印光刻机可以用于高制程芯片制造，作为纳米压印光刻技术龙头苏大维格，将目前用于其他领域光刻的纳米压印光刻机改进模头精度平移到芯片制造领域替代佳能公司技术上可行，有望成为我国高制程芯片制造的设备破局者。