1966年，中国自研了第一台光刻机——65型接触式光刻机。1985年，中国自研了第一台分布式光刻机样——接近美国GCA4800DSW光刻机。我们的半导体产业，曾经全力自主发展了20年。如果以上的进程，没有中断，中芯国际，应该有3万亿了吧。