少数硬核近端创业板次新股！继智信精密后近端次新里又一有看点的苹果设备股？
海豚读次新（解读次新风云变化，挖掘成长潜力牛股）
文/海豚音
写于2024.7.9晚间
1 久旱逢甘霖！中报预告密集披露中
今日终于迎来久违大涨，以小盘股为主的深次新股大涨超3%，超越创业板指1.4%的涨幅，创业板新股里罕见再现5只20厘米涨停。五穷六绝七翻身，进入七月在熬过了近一周的至暗时刻后今日也算给了我等金融消费者一点希望，可以说久旱逢甘霖。
这一方面得益于中报预告的密集披露使得质优低估股性价比优势凸显；另一方面在于股价确实已跌无可跌。这是最坏的时刻也是最好的时刻，绝佳的“黄金坑”正吸引着越来越多的抄底资金。永不绝望，不轻易放弃手中带血的筹码是目前阶段最好的策略。
截至目前两市披露中报预告的已近千家，而7月9日以来披露中报的预告的近800家，这其中一半利润增速为正，扭亏75家、预增192家，其中扣非利润下限增速超100%的达144家；增速在50-100%的有120多家。
而上市三年新股里已有54只披露中报预告，其中7月9日以来披露的达30家，但是仅有11只实现了扣非利润正增长——
存储器龙头德明利上半年不负众望扣非利润大幅扭亏，从去年同期的8400多万亏损增至今年上半年的3.6-4.3亿，今日盘中股价大涨近7%。
同样表现优异的还有晶体生长设备龙头晶升股份今年上半年扣非利润同比实现翻倍增长达1610-1850万，只是绝对额还比较低，主要看下半年表现了。
而另一方面暴雷的也不少，立航科技等五只首亏，盛景微、亿道信息等多只近端次新扣非利润同比大降超90%。
2 iPhone16+AI催化下苹果股活跃
分板块看继上周五医药集体大反攻后，今日消费电子板块在苹果产业链个股的带动下成了反弹龙头，超级大白马欧菲光罕见涨停，并受到机构席位狂买；同时科创芯片指数再度大涨超3.7%，以力芯微为代表消费电子芯片股成为了反弹急先锋，流动性几近枯竭的科创板块今日难得迎来赚钱效应。
不得不说自2024年6月初苹果全面拥抱AI以来，市场对苹果产业链的关注可以说与日俱增。
2024年6月10日苹果在WWDC开发者大会上推出了具备大模型能力的Apple Intelligence套件，同时还宣布与OpenAI合作，支持GPT-4的AI能力。
刚刚过去的618，iPhone 15系列更是再次凭借超高的销量夺下多个电商平台的第一。
另一方面随着9月份苹果秋季新品发布会临近，iPhone 16系列+AI也更是受到期待，硬件更新上iPhone 16有望成为苹果近两年最有诚意的一代，全系都将标配8G内存，用于满足Apple Intelligent对设备的内存需求，此外还有不锈钢电池、4800万像素超广角镜头、三星M14面板等。近期苹果更是上调iPhone16系列备货至9000万部。
3 PVD真空镀膜第一股
在此背景下次新里苹果概念股再度闻风起舞，比如前几天我们剖析过的退市碳元对标股中石科技、思泉新材今日也毫无例外纷纷大涨；同时近端次新里前期股性活跃的苹果设备股智信精密今日大涨超10%，海豚就继续给大家说一只近端次新里继智信精密后又一纯正苹果设备——汇成真空。
不过汇成真空相比智信精密稀缺属性更强，是继溅射材料欧莱新材后PVD真空镀膜产业链再迎一只稀缺标的，PVD真空镀膜设备第一股。
值得一提的是在镀膜设备细分领域中的CVD设备领域诞生了中微公司、拓荆科技等大名鼎鼎的半导体设备龙头。
而汇成真空目前应用领域为消费电子，这点与纳米薄膜材料股菲沃泰类似，区别在于菲沃泰主打的是PECVD纳米薄膜，技术路径不一样，同时业绩不像菲沃泰那样亏损那么多。
下游客户方面与菲沃泰大客户主要集中在华为、小米不同，汇成真空是近端次新里继智信精密后又一纯正苹果设备股。
当然因为目前汇成真空半导体应用领域占比还较低，所以才会选择创业板上市。
好消息是汇成真空的产品已可用于光刻掩膜版、航空航天等高端工业领域，且新能源应用占比正在提升，拓展空间巨大。
可以说汇成真空是目前近端次新里为数不多的硬核创业板新股，因此上市首日一度暴涨7.5倍，那么如今处于估值回归路上的汇成真空，其股价几近腰斩后底部何处可见？未来从基本面角度是否有长期投资价值？且看海豚今日为您深度剖析！
相关个股剖析链接如下：
智信精密:苹果设备股，多产品为唯一供应商，还叠加机器视觉+工业AI概念...
菲沃泰：纳米薄膜细分领域唯一标的！继拓荆后又一涉PECVD股，产品已达国际水平...
5 PVD镀膜设备增速将达8.9%
众所周知薄膜制备技术应用广泛，其主要技术方法分类如下图：
其中液相法因属于湿法工艺，需要对基材进行浸泡，因此不适用于电子产品、电子元器 件等不可浸泡的基材；
气相法中的物理气相沉积技术（PVD）技术生长机理简单，沉积速率高，但一般只适用于平面的膜层制备，具体分为如下三类：
真空蒸发镀膜：加热膜材使表面组分以原子团或分子团形式被蒸发出来
真空磁控溅射镀膜：用高能等离子体轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来
真空离子镀膜：在真空条件下，利用气体放电使工作气体或被蒸发物质（膜材）部分离化
化学气相沉积技术（CVD）相比PVD绕镀性能更佳，能够覆盖更复杂、更精细的表面结构，更适合为精密部件制备纳米薄膜；
此外还有更为先进的原子层沉积（ALD），微导纳米就是ALD设备第一股。
表面处理技术可以增强被处理对象表面的耐磨性、耐腐蚀性、光滑度等属性，大大减少了损耗和浪费，起到节能环保作用。真空镀膜作为表面处理技术的一类，是在高度真空（高度洁净）环境下通过物理或化学手段将膜材（金属、塑胶、玻璃、陶瓷、化合物等）转换成气态/离子态，直接沉积于基材（玻璃、金属、陶瓷、塑料/有机材料等）表面形成镀膜。
相比电镀、化学镀膜等传统镀膜方法，真空镀膜使用的镀膜材料种类更丰富、膜层厚度更易控制、附着力更强、适用范围更广，且更加节能、安全、环保。近年来真空镀膜正凭借高性价比、低污染等优点成为表面处理主流技术，已广泛用于五金、塑胶、卫浴等装饰镀膜以及消费电子、工模具、集成电路、半导体、航空航天、光伏、医疗器械等功能膜战略新兴领域。
装饰镀膜：主要目的在于改善工件外观，并使其更耐磨耐腐蚀，延长寿命，因此工艺单一、简单，行业进入壁垒较低。
工具镀膜：主要用于提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面摩擦系统，主要用于刀剪、模具等，其工艺相对复杂、要求也较高，因此进入壁垒也较高。
总体除了传统应用领域，真空镀膜在消费电子、集成电路、高端光学（光学镜头+传感器）等领域应用均具有较高进入门槛和技术难度。
其中真空镀膜工艺在消费电子领域广泛用于金属结构件、摄像头、玻璃等；在集成电路领域，电极互连线膜、阻挡层薄膜、接触薄膜、光刻薄膜、电容器电极膜、电阻薄膜等均需用到溅射镀膜工艺。
随着电子、半导体、光伏等下游需求增加，全球PVD(物理气相沉积)设备市场规模预计将从2020年的193.5亿增至2026年的259亿美元，未来复合增速将达8.9%。
目前高端真空镀膜设备市场主要被应用材料、爱发科、德国莱宝等美、日、德外资占据。我国真空镀膜设备起步于20世纪60年代，目前距离外资先进水平仍有差距，电源、真空泵等核心零部件仍依赖进口。
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