CMP是一个被忽视的赛道,随着制程的不断缩小,CMP的使用量在飞速增加。从28纳米的只要2-3次抛光,到7纳米需要30次抛光,再伴随着堆叠、3D封装技术的演进,CMP的使用工序在不断增加。特别是在HBM领域,将采用的混合键合技术最核心一个要求就是晶圆的平整度,因此CMP工序的...
他目前的主营产品是金刚线,在切入半导体耗材和设备领域,这块的估值目前还没办法通过业绩体现出来,只能是一个预期。
如果能拿住,感觉有月线级别行情