国内现在拿出成品销售的上海微电子SEEE，可做IC前道加工的600系列光刻机。i-line汞灯光源，只能加工200nm,
后面有用ARF和KRF激光光源的。也只到110nm和90nm精度。
那么它这个明说了光源就只有NUV，最多也就到200nm了。
去搞搞清国内专利体系了嘛？实用新型专利和发明专利，创新度上差别很大好嘛？
你咋不说外观设计专利呢？那也是专利呀。泡泡马特的臭脸molly也有外观设计专利呢。一个小电驴也有外观设计专利呢。这种常识都是可以百度解决的好嘛？
如果这真是个原创型发明，它就不会迄今只申请实用新型了，早就通过马德里协定，同步申请PCT国际专利了好嘛？
另外，知乎上随便一个人都能注册了写几句。
那文章有官方认证的领域达人给了专业勋章嘛？有入选官方盐选嘛？那些认证是半导体领域的嘛？
我还是知乎大V,有领域达人认证呢。那我写的有关内容，你咋不信呢？
都在那儿扯啥呀，如果国内有解决问题的样机，至少45nm就应该有成品销售了，美帝并没有禁止尼康，佳能，或ASML出口我们21nm以下的光刻。那我们研发45nm光刻没人来干预。
你现在45nm光刻的样机或成品都没看到有人拿出来。你去臆想有接近7nm的东西，不是纯纯的扯蛋嘛？
你想骗人，炒作一把，就直接点，不要装作学术探讨的样子来恶心人。$联合光电(SZ300691)$ $阿斯麦(ASML)$ $尼康(NINOY)$#半导体# #光刻机# #芯片#
@海阳路 这货，原来弄出这条东西来，就是为了混淆信息，好给他的重仓股造势的。谁知道他是不是和上市公司串通过了没有。怪不到一和他说个正经，他就心虚把原贴子删了。
我仔细看了下，国内实用新型无需经过实质审查，就是初审形式审查一下就好了。
网页链接
呵呵呵，所以，这种手段哟！先去弄个热门主题的新型形式审查一把，找个论坛大V，告诉所有人。概念就做出来了！
大家小心这货推的东西了。
