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Q: 公司的清洗设备与至纯科技是竞争关系还是合作关系？

A:公司的产品是给清洗设备厂家、半导体主机厂做配套。国内做湿法清洗的公司如盛美、至纯、北方华创等都是公司的上游。

Q: 半导体和泛半导体的清洗市场空间大致有多少？毛利率如何？

A: 清洗设备总体占整个半导体设备的5%左右，臭氧设备是清洗设备的辅助设备，国内半导体臭氧设备在17亿左右加上泛半导体大约在26亿左右。半导体行业的毛利率基本在40%以上，但是每一家的毛利率不同，每一个阶段也是不一样。比如有的企业在刚开始导入，有的企业在爬坡，有的企业已经正式量产，有的企业可能已经进行规模化生产，每个阶段毛利率都是不同。

Q:臭氧可能更多用于高阶制程的清洗。高阶制程和低阶制程是怎么定义的？

A:高阶制程通常指是我们经常说的几纳米。越高级，对清洗的要求就越来越高，芯片行业的特点是超清洁，超纯净，超细微，任何的污染都会导致芯片有隐性的质量隐患，降低良率。高阶、低阶其实更多的是行业对装备级别的定义，低阶更多的是指微米级的，如芯片、面板、单晶硅很多都是微米级的，其对各个环节的要求级别要比纳米级的低得多。高阶要求高精度的控制，能够生产一定良率的高水准的晶圆产品而低阶的要求比较低，良率也能够很好的得到控制的。臭氧水的应用分了两类，第一种用在高阶上其清洗效果，如致密性、均匀性以及腐蚀的移向性都比酸和碱要好，但臭氧不是完全替代酸碱，其是配合使用进行部分替代。低阶除了要使用臭氧本身的效果以外，更主要的是臭氧清洗的成本更低且更环保。

Q: 高阶与低价清洗两个层面的臭氧渗透率？

A: 渗透率目前整个行业没有统计。目前臭氧工艺在最近几年逐步得到认知并且得到应用。半导体行业的验证周期一般要8个月到 18 个月，快一点也要6个月，低阶制程的验证难度和验证的细致度会低很多。

Q：低阶制程上，臭氧同碱性清洗相比成本能节省多少？

A：以泛半导体行业为例，臭氧替代氢氧化钾或者双氧水，包括氢氧化钠完全替代，一年一台臭氧水机至少可以省150 万左右（一台臭氧水机售价在50-70万元左右），且只是算药液的成本，还没有算污水处理的成本。

Q：臭氧设备在行业内的竞争情况？

A：目前全球半导体行业应用臭氧主要包括美国MKS、日本yibala（？）、住友等。半导体行业除了国际三家，国内除了国林外还有一家位于江浙沪的企业。从应用的角度来讲，国内在臭氧应用半导体行业刚刚开始进入，在泛半导体行业市场已经有了一些不错的应用了。目前半导体行业臭氧清洗技术的核心技术只有国林半导体拥有全系列的臭氧核心技术。国内另外一家主要是做光伏检测设备的，并利用这样的资源做一些集成。据说这两年也在自己开始开发研究臭氧，但具体什么情况不是太了解。

近期美国对中国的半导体芯片行业做了严格的限制，所以目前国产替代的窗口其实已经进一步开放。同行也都认为国产化的窗口已经真正的开放了，目前很多企业已经着力开展国产化供应链。臭氧作为清洗环节必不可少的一款设备，实际上也已经在跟很多的企业在进行对接和接洽，进行技术交流、方案评估、技术评估。未来国内的臭氧设备国产化替代会是一个非常明显的大趋势，会呈几何式的增长。刚开始导入的时候，会存在一个过渡期，但是一旦导入进去之后，速度会非常快。

Q：上半年的时候有一台设备去送样了，目前这个设备的进展是什么情况？

A：由于半导体行业的特殊性，其必须要提供超安全超稳定的机台，不允许像国林以往工业产品那样。另外它的试错成本也是比较高，所以公司在进入的时候确实比较谨慎，这也是为什么公司用了好几年进行电子级臭氧产品的开发。今年公司在薄膜沉积和清洗设备环节都有一些出货。

Q：崂山工厂那边可以量产了吗？

A：崂山工厂已经装修完了，预计12月底之前安装完设备，安装完之后启动搬迁，搬迁之后就可以完全量产。预计2023年达到满负荷，预计每年200-300台臭氧水机，其售价在50-100万左右。以后预计每年产能会有20%甚至更高的复合增长，中长期来看（5年）该厂区臭氧水设备要达到400台/年左右。