【国林科技300786】【光刻机】+【半导体高端制程清洗】唯一标的！公司进军半导体级臭氧工艺设备：臭氧湿法清洗工艺在主要28nm-14nm先进制程工艺，主要是氢氟酸刻蚀后清洗（需要配合12英寸单片式清洗设备），用量较大，可有效解决水相中氧化物污染和金属污染。目前公司已经掌握核心技术，将泵+...