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英特尔的工艺问题核心还是在材料应用方面进展迟缓,正如某位分析师所言,“英特尔一旦在互连材料的替代上取得先机,将锐不可挡。”笔者认为,如果英特尔真的能在1-2年时间内彻底解决钴材料的问题,他们依然有机会在后续工艺制程中重新夺回领先的优势,毕竟新材料的威力值得任何人去期待。

从半导体研发和设备投资来看,英特尔依然以百亿美元的规模大幅领先台积电,这依然是我们期待英特尔能成功突围材料应用难点的关键支撑,毕竟谁也不知道,真的到了3nm,铜合金材料是否还能继续保持足够可靠的电迁移表现呢?
引用:
2020-07-29 05:44
原标题:材料之殇 老司机英特尔折戟7nm的背后 来源:EEPW 很多人在谈到中国半导体的问题时,归根结底溯源到了基础科学的落后,特别是半导体材料和基础理论的缺乏,其实这样的问题不止中国半导体有,半导体工艺近20年来绝对领... 网页链接