证券之星消息，根据企查查数据显示京东方Ａ（000725）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种阵列基板、制备方法以及显示装置”，专利申请号为CN202110727811.1，授权日为2024年7月26日。
专利摘要：本发明实施例公开一种阵列基板、制备方法以及显示装置。在一具体实施方式中，该阵列基板包括多个薄膜晶体管，该阵列基板的制备方法包括在衬底上形成图案化的有源材料层，图案化的有源材料层包括待形成的薄膜晶体管的沟道区以及对应薄膜晶体管的源漏电极的非沟道区；在衬底上形成金属层，金属层使得多个薄膜晶体管的非沟道区电连接；在金属层和图案化的有源材料层上形成栅极绝缘层、栅极以及与非沟道区电连接的源漏电极，以形成多个薄膜晶体管。该实施方式的制备方法通过形成与多个薄膜晶体管的非沟道区电连接的金属层，从而降低制备得到的阵列基板的薄膜晶体管之间的电流电阻，改善薄膜晶体管之间的电流移动。
今年以来京东方Ａ新获得专利授权2220个，较去年同期增加了37.97%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了113.2亿元，同比增1.97%。
数据来源：企查查
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