万润股份获得发明专利授权:“用于光刻胶底部抗反射涂层的聚合物及制备方法和应用”

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证券之星消息,根据企查查数据显示万润股份(002643)新获得一项发明专利授权,专利名为“用于光刻胶底部抗反射涂层的聚合物及制备方法和应用”,专利申请号为CN202410269048.6,授权日为2024年5月10日。

专利摘要:本发明涉及光刻胶技术领域,具体涉及用于光刻胶底部抗反射涂层的聚合物及制备方法和应用,所述聚合物具有如下结构式:;a、b、c分别为聚合物中重复单元的质量分数,a选自1‑10%,b选自10‑80%,c选自10‑80%,所述聚合物的重均分子量选自4000‑10000Da,分子量分散系数选自1.0‑3.0。制备方法为:三种单体在溶剂中,经缩聚反应得到目标聚合物。所述聚合物可应用于光刻胶底部抗反射涂层,所述聚合物可有效阻止光刻胶辐射光穿透反射涂层,大幅提高光刻胶显影图案的分辨率。

今年以来万润股份新获得专利授权17个,较去年同期增加了54.55%。结合公司2023年年报财务数据,2023年公司在研发方面投入了3.65亿元,同比增2.01%。

数据来源:企查查

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