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【三井化学将量产光刻薄膜新品 支持阿斯麦新机】《科创板日报》18日讯,日本三井化学日前宣布,将开始量产半导体最尖端光刻机的零部件产品(保护半导体电路原版的薄膜材料“Pellicle”的新一代产品),计划在日本山口县岩国大竹工厂内设置生产线,计划年产能力为5000张,生产线预计于2025年12月完工。可支持荷兰阿斯麦(ASML)将推出的下一代光刻机。

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06-18 15:50

“2024年5月28日,三井化学宣布决定在其Iwakuni-Ohtake工厂建立适用于下一代高聚焦、高功率的EUV光刻系统MITSUI PELLICLE™碳纳米管(CNT)薄膜设施,产能为5000张/年,预计2025年12月完工。”
CNT作为最有潜力的新材料,未来的应用领域会不断扩大。$天奈科技(SH688116)$ 公司应该积极关注新领域应用对CNT性能的要求,持续领先的产业化能力。

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