//目前我国基本具备了中高端逻辑芯片、中低端存储芯片、中低端模拟芯片的制造能力。逻辑芯片制造领域，中芯国际利用现有DUV设备开发的“N+1”、“N+2”两种工艺已经在14纳米制程上有了全方位的进步，距离7纳米工艺标准仅一步之遥，结合中芯国际2021年初与ASML签订光刻机采购大单来看，虽然高端EUV光刻机短期内仍无法进口，但其基于DUV光刻机的14纳米和准7纳米产能将进一步扩大，对满足内需起到很大的帮助。

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芯片这段时间调整到位的话可以继续跟进