半导体设备具有技术壁垒高、研发投入高、技术更新迭代快等特点,一般从设备的研发、送至客户端验证、在客户端生产线应用及量产,通常需要较长周期。拓荆科技已在半导体薄膜设备领域深耕十余年,自主研发的PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD等系列薄膜设备均已实现量产,且公司设备在客户端产线生产运行稳定性表现优异。截至2023年12月31日,公司在客户端累计生产的流片量超过1.5亿片,2023年度平均机台稳定运行时间(Uptime)超过90%(达到国际同类设备水平),公司产品在客户端的量产指标表现可以体现公司产品的竞争实力及量产能力。在设备产品从研发推向产业化过程中积累了丰富的经验,且公司薄膜沉积设备导入集成电路领域市场并实现产业化的时间较早,现已经形成了研发团队、技术储备、客户资源及售后服务等方面的优势,并在推进产品创新方面具有扎实的技术基础,可以及时满足客户需求。未来公司将持续保持高强度研发投入,持续提升产品性能,保持产品核心竞争力及市场领先地位。