回复@江菲: 江兄，查了些资料，仅供参考。佳能的纳米压印技术已经成功实现了商业化，能够制造5纳米级半导体芯片，并且在耗电量和成本上具有显著优势57。这项技术相比传统的极紫外光刻（EUV）技术，能够大幅度降低芯片制造的设备和电力成本，有望快速替代ASML的EUV光刻机11。据报道，与EUV光刻相比，纳米压印技术能将制造成本降低40%，耗电量降低90%16。
苏大维格虽然拥有纳米压印技术，并且该技术是其产品的重要组成部分6，但目前主要应用于大尺寸触控、反光材料、光学膜等应用领域10。尽管苏大维格在实验室已实现10+nm的纳米压印技术2，并且纳米压印技术被视为一种微纳加工技术，有潜力代替传统且复杂的光学光刻技术8，但从现有资料来看，苏大维格尚未具备完全替代佳能纳米压印技术的能力，特别是在5nm芯片制造方面。
综上所述，虽然苏大维格具备纳米压印技术，但要达到佳能在5纳米芯片制造方面的商业化水平和技术成熟度，还需要进一步的研发和市场验证。因此，基于目前的情况，苏大维格不具备完全替代佳能纳米压印技术的能力。//@江菲:回复@淡淡的相思林:林大，您好！想请教您一个问题：日本佳能的纳米压印技术5纳米商化了，传言有可能取代极紫外光刻，芯片制造成本降低40%。您认为这种技术有可能行得通吗？谢谢您！