【国产光刻胶技术,重大突破!】
4月2日,据《科技日报》记者从华中科技大学获悉,该校与湖北九峰山实验室组成联合研究团队,突破“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”技术。
【湖北:创新出动能
激光闪烁,一片碳化硅晶圆仅用10分钟就完成了切割,崩边在5微米以内,达到国际先进水平。“全国产化半导体晶圆激光切割机是我们联合九峰山实验室推动协同创新,实现高端装备国产化的最新成果。”华工科技产业股份有限公司董事长马新强说,目前新产品已在九峰山实验室完成中试发往首家客户,未来有望成为企业新的增长点。】
【重要议程,专家云集,2024CSE 开幕大会主旨报告议题揭晓】2004年4月9日,本届九峰山论坛采取“1场开幕大会+8场行业论坛+多场行业专题会+多场展边会”的模式,将由10余位国内外院士领衔出席,共计150余位嘉宾分享行业报告,议程可谓相当充实。
《化合物半导体的全球格局下,中国光电子企业的机遇与探索》~熊文,华工科技副总裁。
【华工科技2023年度业绩说明会直击】
“华工科技自主研制的第三代半导体晶圆激光切割装备已在九峰山实验室完成测试,发往首个客户处。”华工激光副总经理、精密微纳加工事业群总经理王建刚介绍,公司目前开发的半导体装备产品覆盖化合物半导体前道和后道制程,包括碳化硅衬底外观缺陷检测,晶圆激光标刻装备、晶圆激光退火装备,晶圆激光表切装备、晶圆激光隐切装备,和碳化硅晶圆关键尺寸测量设备等。