金融界2024年5月1日消息，据国家知识产权局公告，京东方科技集团股份有限公司申请一项名为“薄膜晶体管及其制作方法、显示基板和显示装置“，公开号CN117954495A，申请日期为2022年10月。
专利摘要显示，本公开提供一种薄膜晶体管及其制作方法、显示基板、显示装置，薄膜晶体管包括：设置在衬底上的栅极、有源层、源极和漏极，有源层位于源极远离衬底的一侧，栅极位于有源层远离衬底的一侧；源极和漏极均与有源层连接；缓冲层，设置在有源层与源极所在层之间；栅极绝缘层，设置在有源层与栅极所在层之间，栅极绝缘层具有镂空部；转接电极，位于有源层远离衬底的一侧，转接电极的一部分通过镂空部与有源层电连接，且另一部分通过第一过孔与源极电连接，其中，第一过孔至少贯穿有源层和缓冲层；第一过孔在衬底上的正投影与镂空部在衬底上的正投影存在交叠。