英特尔在俄勒冈工厂新增 ASML 首台高数值孔径极紫外光刻设备
英特尔公司最近在其位于俄勒冈州的工厂中增加了 ASML 公司的首台高数值孔径极紫外线光刻机（High NA EUV）。这台引人注目的机器，体积巨大，堪比双层巴士，重量则与蓝鲸相当。该设备被从荷兰 ASML 总部运往美国，整个运输过程中使用了多架货机和约 20 辆半挂车，货物被分装在 43 个货柜中，包含超过 250 个箱子。
这台新的晶体管制造设备被视为芯片行业的一次重大革命，它是世界上首个采用高数值孔径的极紫外光刻系统，简称为 High NA EUV。这种设备是英特尔、ASML 及其供应商三十多年紧密合作的成果，可能是迄今为止人类制造的最复杂的设备之一。
当这台机器最终抵达工厂并开始组装时，所有这些年的准备工作—设计图纸、动画演示以及具体的运输和处理计划—都变成了现实。这是一个非常激动人心的时刻。High NA EXE:5000 型光刻机能够在硅晶片上精确投射电路图案，对芯片性能的提升有着不可估量的影响。这种技术的发展是摩尔定律持续实现的关键，预计将推动未来多个技术节点的发展。
此外，这个设备在技术上的一大突破是其能够实现比现有 EUV 设备还要小 1.7 倍的特征尺寸打印。它的激光系统非常强大，能够切割钢铁，而产生的激光脉冲通过特殊装置传送至机器内部，击中融化的锡滴，产生极紫外线。这些光线经过一系列精确的镜子反射后，形成适合传输晶体管和互联图案的狭缝，极大地增强了投影效果。
设计这种设备的复杂性和它实现的方式都令人赞叹。它不仅展示了超过 1000 个电气和机械连接的精密工程，还能够将等离子体的温度升至接近 220,000 摄氏度，这是一个接近太阳表面温度的惊人数字。如此高级的技术使英特尔 Foundry 在芯片制造中达到了前所未有的精度和可扩展性，为全球科技产业的进步贡献了重要力量。
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