（1）近70款光刻胶单体，包含13款ArF光刻胶单体、2款KrF光刻胶单体；
（2）50多款光刻胶树脂，包括7款ArF树脂、6款高端KrF树脂；
（3）超过150款光敏剂，其中12款针对ArF光刻胶开发、10款针对高端KrF光刻胶开发。
同时，公司有多款高端光刻胶产品分别获得了国内12寸晶圆厂的相关订单。
（1）ArF光刻胶有26款产品，含ArF-immersion15款、ArF-dry11款，可应用于14-90nm制程节点；其中9款正在客户端进行产品验证导入量产，涵盖55nm、40nm、28nm及以下的LOGIC关键层工艺以及3DNAND，DRAM等应用领域；5款已形成销售。
（2）KrF光刻胶有30款产品：高分辨产品最小分辨率可达120nmCD，可应用于14nm-180nm制程；中厚胶主要为L/S，针对8-12寸抗刻蚀层；厚胶主要针对高深宽比及高台阶覆盖的应用；负胶主要针对IC端和器件类特殊工艺应用；20余款正在客户端进行产品验证导入量产，涵盖55nm、40nm、28nm及以下的关键层工艺以及存储器、分立器件、传感器等应用领域；15款已形成销售。
（3）I线光刻胶有19款产品，主要为化学放大型光刻胶，具有更高的分辨率、对比度和深宽比，10多款正在客户端进行产品验证导入量产，14款已形成销售。
（4）电子束光刻胶有PMMA体系、PHS、HSQ等3大种类在销
$华懋科技(SH603306)$ $容大感光(SZ300576)$ $张江高科(SH600895)$
