包括了多种关键性材料,例如氟化氢icon、蚀刻液、聚酰亚胺和高纯度氮等。涉及光刻/曝光领域的有4项,即先进制程的光刻机/涂胶显影机/掩膜及制造设备;涉及刻蚀icon领域的有3项,分别是湿法/干法/各...