1)刻蚀设备电感耦合等离子体刻蚀机(ICP):原研迭代搞了十多年,国内第一,公司多晶硅及金属刻蚀系列 ICP 设备实现规模化应用,完成了浅沟槽隔离刻蚀、栅极掩膜刻蚀等多道核心工艺开发和验证,助力国内主流客户 技术通线,已实现多个客户端大批量量...