HBM存储未来技术方向

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周末晚上听取了机构的调研纪要,讲述HBM存储的未来发展方向,我自己学习了一些,记录下来,形成投资计划,记录在雪球,后期可以验证是否正确。

HBM存储主要是算力的需求带来了存储的带宽,速度及能耗的更好的要求,用来匹配算力的增长,也就是大家说的“存力”。为了可以提高“存力”,HBM存储的主要工艺未来的三个方向基本是确定的:减薄工艺,TSV穿孔工艺以及键合/解键合工艺。

其实也不难理解,需要HBM的效率更高,那么需要多个芯片堆叠,那么减薄工艺就越来越重要,TSV穿孔工艺在于今后在一块芯片上的打孔会越来越密,因此这块的工艺要求也是越来越高,最后就是键合工艺。

三个方向上的一些投资标的:

键合设备:芯源微;键合材料:飞凯材料

减薄设备:光力科技;减薄材料:华海诚科

其他很多标的还在挖掘中

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为什么没有TSV设备呢

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