说到光刻机，相信很多人都会想到国内厂商，获得先进光刻机产品制造的一路障碍不断。事实上，光刻机的战争就一直没有停止过，比如说2018年的12月，荷兰光刻机龙头大厂的ASML 供应商，就发生了失火的事件，这件事情绝不是如“ASML”所言对供货基本没影响。
这场失火的事件，很容易影响到已经订购光刻机交货的周期，同时还会导致未来一段时间的交货结构非常紧张。这次荷兰先进光刻机的龙头大厂失火，国内在舆论下便促进和7NM光刻机的合作，这件事情和福建晋华被美国禁运设备的事件，亦或者和国内蓬勃发展的半导体加工产业，貌似都有着紧密的关系桥接着。
接着是2019年的11月，ASML 7纳米光刻机为中国的供应又掉链子了，这一次没有“放火”事件，而是直接地拿“许可证到期”来说事。说到这里可能有些人会有疑问了，为什么在2018年就已经有了购买7NM光刻机的传闻，而那个时候又有一张许可证的存在，现在又为何“突然过期”了呢？
对于7NM光刻机的“许可证到期”，有很多网友认为这又是一桩“阴谋论”，即便是有一张许可证的存在，那么也会是在“过期前”申请延期。在这之前，先进光刻机的大佬厂商就分为三家：1、荷兰ASML。2、日本尼康。3、佳能。到如今先进的芯片光刻机也就只剩ASML了，日企则是专注于显示产品用在光刻机上。
值得关注的是国内的“上海微电子”，已突破90纳米的光刻机研发和技术。但是国内的先进半导体工业还并不成熟，不论是台系台积电的南京工厂、系格罗方德的成都工厂，又或者是韩系的三星西安工厂、本土的投资工厂，这些投资都需要一个先进的ASML光刻机。尤为重要的是逻辑运算芯片，这是一个特别高的工艺等级。
在很多智能手机里，PC和 CPU率先采用的就是工艺的芯片技术，这也是厂商们新产品的重要竞争核心。先进的光刻机，对于整个半导体芯片，尤其是智能时代逻辑芯片来说，几乎是有着“卡脖子”的障碍，而ASML背后的目的，多数也是阻止我国半导体行业的发展。
既然这项如此重要国内为何不努力去突破呢？ 这个答案相信已经很明确了，对于光刻机的突破我国工程师已经非常努力了，在以前还有佳能和日本尼康作为参考学习，如今只剩下荷兰ASML一家公司，可供技术的参考几乎是为0。
并且光刻机的难度还非常高，它比机床技术还要难上百倍，机床是毫米计算、而光刻机则是纳米计算。另外光刻机技术并非是一个人就可以研发出来的，它需要很多先进的设备和人才，所以想要突破先进光刻机的技术实在是太难了。