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$微导纳米(SH688147)$ 按照缠论的说法是市值与公司发展产生的底背离,公司超级增长而市值却回落到刚上市的水平。根据微导纳米2023年度公开信息:
1、在半导体领域内,公司率先攻克难度较高的28nm逻辑电路栅氧层氧化铪工艺并获得了客户的重复订单,为公司向全工艺段覆盖奠定客户基础。(半导体领域设备成为国产首台成功应用于28nm节点集成电路制造前道生产线的量产型High-k原子层沉积设备。)
2、公司在保持ALD((TALD、PEALD))产品市场竞争力和占有率的同时,不断推出更多具备竞争力的CVD(PECVD、LPCVD)系列产品。这些产品覆盖了逻辑、存储、化合物半导体、新型显示等多个细分应用领域,尤其在存储领域的拓展成效显著。
3、公司新开发的第一代iTronix系列CVD薄膜沉积设备已取得客户订单,并在极短时间内出货至客户端进行产业化验证;
4、半导体领域内,公司加速推进现有产品的产业化验证工作,公司iTomic MW系列批量式原子层沉积镀膜系统实现首台产业化应用,该设备可一次处理25片12英寸晶圆,具备高产能及良好性能指标,进一步扩宽了公司工艺应用覆盖面。(存储芯片领域)
5、公司ALD设备已陆续获得了如京东方、合肥视涯、浙江宏禧等新型显示硅基OLED厂商以及化合物半导体领域内多家知名客户的订单,并顺利出货。其中,部分产品已获得客户验收,并取得重复订单。
6、微导纳米创新研发的ALD量产设备顺利发往欧洲某头部芯片制造客户,专用于其新型车载芯片的生产制造,再次实现国产高端设备逆向出口海外,标志着微导纳米推动ALD技术在新兴产业领域的应用又取得新的突破,为公司全球化及多元化发展布局增添新的动力。
7、2023年度,公司新增订单总额约64.69亿元,是去年同期新增订单的2.96倍。其中,半导体领域新增订单是去年同期的 3.29 倍(大部分来自存储领域)。<a href="http:/<a href="http:/<a href="http:/<a href="http:/<a href="http:/<a href="http:/<a href="http:/<a href="http:/<a href="http:/

全部讨论

04-13 16:08

$微导纳米(SH688147)$ ALD技术具备向原子层刻蚀(ALE)设备、化学气相沉积设备(CVD)和其他电子工业设备(离子注入)等产品的延伸性。——2022年年报微导纳米的特色硬掩膜工艺CVD设备已经产业化验证…原子刻蚀设备(ALE)还遥远么?目前只有泛林集团(拉姆研究)有ALE原子刻蚀设备供应能力,而国内目前还没有ALE相关产品。先进工艺国内只看微导纳米,市值小,业绩几倍增长,弹性高,预期差大。

04-13 14:31

中微公司的薄膜沉积设备工艺(钨金属)与微导纳米的薄膜沉积设备工艺是不同的应用场景、不同的材料。
微导纳米的设备工艺在:电容介质层、高k栅介质覆盖层、掺杂介质层、芯片制造电极及阻挡层、化合物半导体钝化和过渡层等多个应用领域。2022可视化年报披露:已经开发应用10余种氧化物、氮化物和金属材料。这里金属材料是否包括钨,没有具体指向。

03-30 14:11

$微导纳米(SH688147)$ 微导纳米2023年中期报告显示:报告期内,专用设备产量持续增长,与上年同期同比增幅超过 4 倍, 产品交付能力稳步提升。
——落实新生产研发基地建设和搬迁,夯实发展基础
报告期内,公司与先导控股集团有限公司签署《租赁协议》,租赁其位于无锡市新吴区长江南路东侧、香泾浜南侧的厂房及附属设施,租赁面积约为 5.62 万平方米,用于满足公司日常生产经营,目前已分期推进建设并陆续投入使用。
公司新厂区规划包含合计约 6,000 平方米的高等级 洁净室,其中约 3,000 平方米已建成并陆续投入使用。新厂区各主要功能区划分科学合理,为公司后续研发、生产和运营提供足够的全间,夯实发展基础。