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$东微半导(SH688261)$ 东微的这个结构确实和其它厂商的沟槽结构不同,网页链接,尤其是源极的厚氧化层,和薄氧化层的应用,目前只有cree用平面结构,其它厂商都用沟槽结构,沟槽结构的优点就是导通电阻小,但垂直栅做不均匀,击穿电压会降低,东微的结构专利就是解决这个问题。我的知识不足以判断这个结构的好坏,但sic器件的结构和硅的dmos超级结很接近,东微在硅mosfet上的技术积累能够保证在sic器件上的领先。
引用:
2022-09-06 14:52
【嘉勤点评】东微半导体发明的基于碳化硅的半导体器件制造方案,该方案中的栅极沟槽和源极沟槽在同一步刻蚀工艺中同时形成,并且源极沟槽下方的p型掺杂区可以增加源极沟槽底部附近的电场,把半导体器件内的最高电场限定在源极沟槽的底部附近,从而保护栅极沟槽内的栅极不容易被击穿,并有效提高了...

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碳化硅MOSFET,沟槽比平面栅有优势。英飞凌就是沟槽栅的。东微是创新型沟槽栅。

2022-09-08 18:48

独特的设计,另外国内目前推出的全是平面结构(设计简单,各厂家技术相似,生产稳定性好,但芯片面积大成本高),沟槽型技术难度很高,不同企业各设计不同(当然生产良率不一),小芯片,成本低