ArF（氟化氩干式光刻机）和ArFi（浸润式光刻机）的主要区别在于光源波长和是否使用浸没系统。
光源波长
ARF：使用氟化氩（ArF）作为光源，波长为193纳米。
ARFi：虽然也使用氟化氩（ArF）作为光源，但加入了浸没系统，通过超净水的折射，等效波长变为134纳米。
是否使用浸没系统
ARF：不使用浸没系统，因此被称为干法光刻机2。
ARFi：使用浸没系统，因此被称为浸润式光刻机或湿法光刻机。
应用场景
ARF：适用于低端芯片生产线和非关键步骤的高端生产线。
ARFi：适用于高端芯片生产线，具有更高的分辨率和更小的特征尺寸。
技术发展背景
ARF：技术成熟，广泛应用于低端光刻机市场。
ARFi：在EUV光刻机研发成功后，ASML通过“浸入式转换”技术将干法光刻机升级为湿法光刻机，以保持市场竞争力。
综上所述，ARF和ARFi的主要区别在于光源波长和使用浸没系统，这影响了它们在芯片制造中的应用和性能。