1.光刻机：在芯片制造工序中是最核心的设备，对光刻机的要求主要包括高频率的激光光源、光掩模的对位精度和设备的稳定性；制造高精度的对准系统需要具有近乎完美的精密机械工艺，这是国产光刻机望尘莫及的技术难点之一。我国目前在激光光源和光刻机工作台技术上已实现突破，下一步将主要实现市场化...