晶圆制造设备半导体设备通常可分为前道工艺设备(晶圆制造)和后道工艺设备(封装测试)两大类。前道工艺对应的晶圆制造中的七大步骤分别为热处理(氧化/扩散/退火)、光刻、刻蚀、离子注入、薄膜沉积、清洗、抛光。此外还有金属化...