中国的工程师搞创新确实不行，但技术路线确定之后，搞工程我认为是一流的，再加上梁大神，我看台积电的一个处长评价梁是这个领域的顶尖高手的第一名，一对一他没对手，EUV光刻机原理我看了一遍，最难的应该是是那套镜头(本人是激光行业)，在几百毫米的镜片上镀光栅，这个确实难，如果做出来放到市场上竞争，确实不行，DUV最小光斑135nm，EUV14nm，我们国内EUV做不到14nm光斑，但做到28nm最小光斑却是可以实现的，28nm最小光斑实现5nm工艺应该比DUV135nm光斑容易得多，加上多重曝光，我相信2027就可以实现3nm,今年用DUV也可以实现5的工艺，可能跟主流的5有点差距