193nm光刻胶对于中国半导体产业的价值很多人也许并不清楚。
看看《光刻巨人:ASML崛起之路》书里那一段的描写吧！
佳能和尼康则犯了个策略错误，他们的计划是跳过i线，从g线直接跳到深紫外线（DUV），但他们碰到了技术问题。事实证明，DUV非常复杂，日本的机器无法通过研发阶段的测试。DUV的研发需要大量的占地面积，对准晶圆是件棘手的事情。对于芯片制造商来说，DUV仍然非常不可靠。此外，甚至没有适合248纳米DUV的光刻胶。最后，佳能和尼康只能被迫考虑i线。
可见光刻胶对于光刻机及半导体工艺的重要性。
按不同制程，半导体用光刻胶可分为EUV光刻胶、ArF光刻胶、KrF光刻胶及G线、i线光刻胶，前三者均为高端光刻胶产品，产业信息网数据显示，截至2019年国内在g线/i线光刻胶仅达到20%自给率，而KrF光刻胶自给率不足5%，ArF光刻胶则完全依赖进口。
而且ArF193nm光刻胶是重要的工艺节点。