证券之星消息，根据企查查数据显示光迅科技（002281）新获得一项发明专利授权，专利名为“刻蚀方法及刻蚀设备”，专利申请号为CN202110265900.9，授权日为2024年5月3日。
专利摘要：本公开实施例公开了一种刻蚀方法和刻蚀设备，所述刻蚀方法包括：沿遮罩层中的第一开口和第二开口，采用第一刻蚀气体对介质层同时进行第一刻蚀，形成具有第一深度的第一凹槽和具有第二深度的第二凹槽；其中，所述第一开口的开口尺寸大于所述第二开口的开口尺寸，所述第一深度大于所述第二深度；采用第二刻蚀气体对所述第一凹槽和所述第二凹槽同时进行第二刻蚀，以将所述第一凹槽的深度从所述第一深度增加为第三深度，并将所述第二凹槽的深度从所述第二深度增加为第四深度；其中，所述第三深度等于所述第四深度，所述第二刻蚀气体对所述第一凹槽的刻蚀速率，小于所述第二刻蚀气体对所述第二凹槽的刻蚀速率。
今年以来光迅科技新获得专利授权34个，较去年同期减少了26.09%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了5.6亿元，同比减15.26%。
数据来源：企查查
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